按照氫脆敏感性與應變速率的關系，可以將氫致開裂分為兩大類。

1. 第一類氫脆

 氫脆的敏感性隨應變速率的增加而增加，即材料加載前內部已存在某種裂紋源，加載后在應力作用下加快了裂紋的形成與擴展。第一類氫脆包括三種形式：①. 氫腐蝕，由于氫在高溫高壓下與金屬中第二相（夾雜物和合金添加物）發生化學反應，生成高壓氣體（如CH₄、SiH₄)引起材料脫碳、內裂紋和鼓泡的現象；②. 氫鼓泡，過飽和的氫原子在缺陷位置（如夾雜）析出，形成氫分子，在局部造成很高的氫壓，引起表面鼓泡或內部裂紋的現象；③. 氫化物型氫脆，氫與IVB和VB族金屬有較大的親和力，氫含量較高時容易產生脆性的氫化物相，并在隨后受力時成為裂紋源，引起脆斷。

 上述三種情況將造成金屬永久損傷，使材料塑性或強度降低，即使從金屬中除氫損傷也不能消除，塑性或強度也不能恢復，故稱為不可逆氫脆。

2. 第二類氫脆

 氫脆的敏感性隨應變速率增加而降低，即材料在加載前并不存在裂紋源，加載后在應力和氫的交互作用下逐漸形成裂紋源，最終導致脆性斷裂。第二類氫脆包括兩種形式：一是應力誘發氫化物型氫脆。在能夠形成脆性氫化物的金屬中，當氫含量較低或氫在固溶體中的過飽和度較低時，尚不能自發形成氫化物；而在應力作用下，氫會向應力集中處富集，當氫濃度超過臨界值時就會沉淀出氫化物。這種應力誘發的氫化物相變只在較低的應變速率下出現，并由此導致脆性斷裂，一旦出現氫化物，即使卸載除氫，靜止一段時間后再高速變形，塑性也不能恢復，故也是不可逆氫脆。二是可逆氫脆。是指含氫金屬在高速變形時并不顯示脆性，而在緩慢變形時由于氫逐漸向應力集中處富集，在應力與氫交互作用下裂紋形核、擴展，最終導致脆性的斷裂，在未形成裂紋前去除載荷，靜置一段時間后高速變形，材料的塑性可以得到恢復，即應力去除后脆性消失，因此稱為可逆氫脆。由內氫引起的稱可逆內氫脆，由外氫引起的稱環境氫脆。通常所說的氫脆主要指可逆氫脆，是氫致開裂中最主要、最危險的破壞形式。