應(yīng)力腐蝕破裂(stress corrosion cracking,SCC)是靜拉應(yīng)力與腐蝕共同作用下導(dǎo)致的一種損壞,表現(xiàn)為斷裂,斷口呈脆性斷裂的形態(tài)。腐蝕對(duì)斷裂的影響可以是通過對(duì)裂紋前端的陽極溶解,也可以是通過氫原子的作用使裂紋前端變脆。


  不銹鋼在拉應(yīng)力狀態(tài)下,在某些介質(zhì)中經(jīng)過一段不長(zhǎng)時(shí)間,就會(huì)發(fā)生破裂,隨著拉應(yīng)力的加大,發(fā)生破裂的時(shí)間縮短。當(dāng)取消拉應(yīng)力時(shí),鋼的腐蝕量很小,并且不發(fā)生破裂。應(yīng)力的來源通常是由于金屬經(jīng)過不正確的熱處理或焊接和冷加工過程產(chǎn)生的殘余應(yīng)力,也可能是外加負(fù)荷,或者二者同時(shí)存在。


  應(yīng)力腐蝕破壞的特征是裂縫和拉應(yīng)力方向垂直,斷口呈脆性破壞,顯微分析可在斷口附近發(fā)現(xiàn)許多裂紋,它們多沿晶界分布,也有穿晶分布,或晶界與穿晶混合分布。


  應(yīng)力腐蝕破裂時(shí),腐蝕介質(zhì)是特定的,只有某些金屬一介質(zhì)的組合才產(chǎn)生應(yīng)力腐蝕破裂,如奧氏體不銹鋼的氯脆、高強(qiáng)度鋼的氫脆等。


  一般認(rèn)為,產(chǎn)生奧氏體不銹鋼應(yīng)力腐蝕是應(yīng)力和電化學(xué)腐蝕共同作用的結(jié)果。奧氏體不銹鋼在介質(zhì)中形成鈍化膜,在應(yīng)力的作用下出現(xiàn)滑移臺(tái)階導(dǎo)致表面膜破裂,膜的局部破壞造成裸露金屬成為小陽極,小陽極的溶解逐步形成裂紋,在應(yīng)力與環(huán)境的共同作用下,破裂過程加速發(fā)展。應(yīng)力腐蝕的另一種機(jī)制是氫脆機(jī)制,認(rèn)為蝕坑或裂紋內(nèi)形成閉塞電池,使裂紋尖端或蝕坑底的介質(zhì)具有低的pH,滿足了陰極析氫的條件,氫原子吸附于金屬表面引起氫脆,而導(dǎo)致應(yīng)力腐蝕。


  在介質(zhì)的影響下,裂紋可以在低于Kic時(shí)擴(kuò)展而導(dǎo)致斷裂,如圖9.5所示。人們定義裂紋“長(zhǎng)”時(shí)間或給定時(shí)間不擴(kuò)展的應(yīng)力場(chǎng)強(qiáng)度因子K1值為KIscc,Kiscc也是一種韌性參量,它與Kic的差異便是介質(zhì)的影響。Kiscc/Kic則是衡量材料應(yīng)力腐蝕敏感性的指標(biāo)。


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  當(dāng)應(yīng)力腐蝕裂紋前端的K1>K1scc時(shí),裂紋會(huì)隨時(shí)間而長(zhǎng)大,裂紋擴(kuò)展速率以da/dt斷裂時(shí)間表示。應(yīng)力腐蝕的發(fā)展通常分為三個(gè)階段:第一階段包括孕育期、表面膜的蝕穿、裂紋的形核;第二階段為裂紋相對(duì)穩(wěn)定擴(kuò)展階段;第三階段為裂紋快速擴(kuò)展和斷裂階段。實(shí)踐中,第一階段往往最長(zhǎng),成為整個(gè)過程的控制階段。


  18Cr-8Ni奧氏體不銹鋼對(duì)氯脆的敏感性很大。鎳含量高于8%時(shí),鎳含量越高,抗氯脆能力越大。鎳含量低于8%時(shí),鎳含量越低,抗氯脆能力越大。這是由于生成的復(fù)相鋼和鐵素體不銹鋼的氯脆趨勢(shì)較小。用錳氮代替鎳的鉻錳氮奧氏體不銹鋼有較好的抗氯脆性能。在18Cr-8Ni奧氏體不銹鋼中加入1%~2%Mo將增加氯脆趨勢(shì)。鈦和鈮都增加鉻鎳奧氏體不銹鋼對(duì)氯脆的敏感性。


  無論在奧氏體鋼或復(fù)相鋼中加入1.5%以上的硅均能顯著改善鋼的抗應(yīng)力腐蝕斷裂性能。硅能顯著縮小y區(qū),因此含硅較高的鋼會(huì)含有8相,形成復(fù)相鋼。


  有關(guān)奧氏體不銹鋼氯脆各種影響因素的深入分析及其機(jī)理的研究可參閱有關(guān)文獻(xiàn)。


  測(cè)量Kiscc比較簡(jiǎn)單,最常用的是懸臂梁彎曲試驗(yàn),試樣采用和測(cè)Kic的標(biāo)準(zhǔn)三點(diǎn)彎曲試樣相同,但要長(zhǎng)一些。樣品一端固定于立柱上,另一端與一個(gè)力臂相連,力臂的另一端加上載荷。在樣品的預(yù)裂紋周圍配置所研究的環(huán)境,還可以同時(shí)測(cè)出da/dt-K1曲線。我國(guó)于1995年開始,制定了國(guó)家推薦標(biāo)準(zhǔn)GB/T 15970-1995《金屬和合金的腐蝕 應(yīng)力腐蝕試驗(yàn)》,直至2007年先后發(fā)布了第1~第9共9個(gè)部分。