氣相沉積按形成的基本原理，分為化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）。氣相沉積是在工件表面覆蓋一層厚度為0.5～10μm的過渡族元素（Ti、V、Cr、W、Nb等）與C、N、O、B等形成的化合物，或單一的金屬及非金屬涂層，使零件表層改變化學成分，并在其表面形成功能性（例如超硬耐磨層）或裝飾性的化合物涂層的新技術，現已廣泛應用于各類零件的硬化處理。沉積層的主要類別及特性見表3-38。
主要應用的沉積層TiC、TiN涂層有以下特點：
a. 涂層有很高的硬度（TiC：2980～3800HV，TiN：2400HV）、低的摩擦因數和自潤滑性能，所以抗磨粒磨損性能良好。
b. 涂層具有很高的熔點（TiC：3800℃，TiN：2950℃），化學穩定性好，基體金屬在涂層中的溶解度小，摩擦因數較低，因而具有很高的抗粘著磨損能力，使用中發生冷焊和咬合的傾向也很小，而且TiN比TiC更好。
c. 涂層有較強的耐蝕性，TiC涂層在硫酸、鹽酸、氯化鈉水溶液中的耐蝕性良好，而且TiN的耐蝕性一般都比TiC更好一些。
d. 涂層在高溫下也具有良好的抗大氣氧化能力（TiC大約可達400℃，TiN大約可達500℃），高于以上溫度，在空氣中的TiC、TiN將被氧化成TiO2而失去其原來的性能。
